Čip

Chipbasics

1. Úloha čipu:

ThechipisthemainrawmaterialoftheLED,andtheLEDmainlydependsonthechiptoemitlight.

2.Složení oplatky.

Zahrnuje hlavně hrubší senik (AS), hliník (AL), gallium (Ga), indium (IN), fosfor (P), dusík (N), stroncium (Sr) Některé z těchto prvků jsou složeny.

Tři. Klasifikace čipů

1.Podle světelného jasu:

A. Obecný jas: R, H, G, Y, E atd.

B. Vysoký jas:VG,VY,SR atd.

C. Ultravysoký jas: UG, UY, UR, UYS, URF, UE atd.

D.Neviditelné světlo (infračervené):IR,SIR,VIR,HIR

E. Infračervená přijímací trubice: PT

F.Fotoelektrická trubice:PD

2.Podle ustavujících prvků:

A. Binární destičky (fosfor, galium): H, G atd.

B. Ternární destičky (fosfor, gallium, arsen): SR, HR, UR atd.

C.Kvartérní destičky (fosfor,hliník,gallium,indium):SRF,HRF,URF,VY,HY,UY,UYS,UE,HE,UG atd.

Four.Chipcharacteristicstable(seethefollowingtablefordetails)

Vlnová délka světlo emitujících barevných prvků modelu čipu (nm) Vlnová délka barevných prvků emitujících světlo modelu čipu (nm)

SBIbluelnGaN/sic430HYsuperbrightyellowAlGalnP595

SBKbrighterbluelnGaN/sic468SEbrightorangeGaAsP/GaP610

DBKbrighterblueGaunN/Gan470HEsuperbrightorangeAlGalnP620

SGLcyanlnGaN/sic502UEbrightestorangeAlGalnP620

DGLbrightercyanLnGaN/GaN505URFbrightestredAlGalnP630

DGMbrightercyanlnGaN523EorangeGaAsP/GaP635

PGpuregreenGaP555RredGAaAsP655

SGStandardGreenGaP560SRBrighterRedGaA/AS660

GGreenGaP565HRSuperBrightRedGaAlAs660

VGBrighterGreenGaP565URBrightestRedGaAlAs660

UGmostBrightgreenAIGalnP574HighredGaP697

Žlutá GaAsP/GaP585HIRinfračervenáGaAlAs850

VYbrightyellowGaAsP/GaP585SIRinfraredGaAlAs880

UYSBrightestYellowAlGalnP587VIRIInfraredGaAlAs940

UYBrightestYellowAlGalnP595IRInfraredGaAs940

V. Bezpečnostní opatření a další

1.ChipManufacturerName:A.Guanglei(ED)B.Guolian(FPD)C.Dingyuan(TK)D.Huashang(AOC)

E.Hanguang(HL)F.AXTG.Guang

2.Payattentiontoelectrostaticprotectionduringtheproductionanduseofthechip.

VI.Struktura čipu

Singlechipstructureanddualchipstructureareshowninthefigure.

Sedm. Waferparametry

Vzhled oplatky

Theshapeofthewaferissquareorrectangular,withsingleordoubleelectrodesontheuppersurface,

Mostoftheredandyellowwafersaresingle-electrodewafers,andtheuppersurfacehaspositiveornegativeelectrodes.

Mostblue/greenwafersaredoubleelectrodes,andgenerallyroundelectrodesarepositiveelectrodes.PleaserefertothewaferforspecificelectrodeconditionsSpecification.

Velikost třísek

Chipsaredividedbysize,themorecommonlyusedonesarethefollowingspecifications

(1 mil = 25,4 µm)

Malá velikost

7*9mil

9*11mil

12*12mil

10*18mil

14*14mil

15*15mil

10*23 min

Velká velikost

24*24mil

28*28mil

40*40 mil

45*45mil

60*60mil

8.Hlavní fotoelektrické parametry čipu

9.Vyhodnocení waferů

1. Proces hodnocení:

Incominginspection==>Arrangetrialproduction==>Bondingtest==>Bondingwiretest==>Agingexperiment==>Badanalysis==>OK/NG

2.Položky kontroly zahrnují:

2.1.Whetherthereisaspecificationfortheincomingdata(thereisnospecificationItisnotrecommendedtoexperimentblindly);

2.2. Splňují parametry vstupního čipu (jas, napětí, vlnová délka atd.) specifikace?

Odpovídá vzhled (elektroda) specifikacím? Totéž v knize;

2.3.Měření velikosti: Je třeba použít přesný mikroskop s vysokým výkonem, abyste změřili, zda skutečná velikost splňuje požadavky; včetně délky, šířky, výšky, velikosti elektrody atd.

2.4.Elektrické testování: zda skutečné testy VF,IV,WL,IR,polarity atd. splňují požadavky.

Therearemanymanufacturersthatdonothaveconditionaltestsforthisitem.Itisrecommendedtomakeitintoaproducttestduringthetrialproductionprocess.

Producttest(butthepolarityisbesttobeconfirmedfirst);

3.Zkušební výroba

AfterthevisualinspectionisOK,starttheorderingexperimentandwhetherotherperformancesaresuitable

Bulkproduction,preparerelevantmaterialsandtrialproductionmaterialswhenordering

4.Položky hodnocení vazby:

a.PRRozpoznatelnost

b.tlak vzduchu

c.výška náprstku

p>

d.Velikost trysek

e.Tlak svařovací hlavy

f. Lepivostchipfilm

g. Jak je to s produktivitou,

p>

h.Thrust (post-pushphenomenon)

Pokud se vyskytne nějaký problém, musí být zaznamenán.

Položky hodnocení svařovacího drátu:

a.Tlak svařovacího drátu

b. Výkon

c. Čas

d.Bondingwirehotplattetemperature

e. Rozpoznatelnost

f.Archeight

g.Goldenballsize

h.Výrobní kapacita

i. Pullforce (pozice bodu přerušení)

Pokud se vyskytne nějaký problém, musí být zaznamenán.

Test stárnutí

a.Elektrická zkouška (včetně ESD);

b.Accordingtothereliabilityteststandard,takematerialsandpreparetodothefollowingexperiments:

p>

Před experimentem je třeba produkt očíslovat, aby se otestovala výkonnost VF/IR/IV/WL a produkt musí odpovídat údajům),

Experiment 1: Světlo a teplota v místnosti (podmínka Ta=25±5℃,RH=55±20%RH,

20mA napájení po dobu 1000 hodin)

Experiment 2:Osvětlení na vysokou teplotu a vysokou vlhkost (podmínky Ta=85+5,-3℃,RH=85%+5,-10%,

20mA napájení po dobu 1000 hodin)

Experiment3: tepelný šok[podmínkaTa=85℃(30minut)~Ta=25℃(30minut)

~Ta=-40℃(30 minut)~Ta=85℃(30minut)]

Další experimenty lze vybrat podle vašich potřeb;

Testujte každých 100/168 hodin během experimentu;

Všechny vadné výrobky musí být analyzovány.

Související články
HORNÍ